中国光刻机巨头打破垄断,拥有3200件专利,占据80%的低端市场
早在1965年,在中科院手中65型接触式光刻机便已诞生,我国开始了光刻机领域的发展。在多年的追赶中,中国与美国光刻机之间的差距一度缩小,却因为“造不如买”思想兴起、《瓦尔森协定》签署等原因,我国在光刻机领域的研究几度停滞。

而ASML却迅速成长,在业界有着难以撼动的地位。如今,光刻机已经成为我国最薄弱的领域之一,与芯片产业的发展息息相关。好在,上海微电子的出现填补了我国光刻机领域的空白,成为国内唯一的光刻机厂商。目前,上海微电子已突破90nm光刻机,占据我国80%的低端市场。
虽然,上海微电子与ASML之间有着显而易见的差距,但正逐渐打破着海外的垄断。据悉,在2021年,上海微电子有望交付首台28nm光刻机,若真如此,我国芯片制造业将被大大推动,逐渐摆脱海外的束缚。据公开资料显示:上海微电子于2002年成立,技术创新与知识产权是公司发展的一大战略。
经过7年的研制,上海微电子第一台封装光刻机产品终于在2009年成功交付,取得了初步胜利。并且,其还在此后实现了外销。据上海微电子官网显示,到今年3月,公司已经拥有3200多项专利与专利申请,在光刻机、激光与检测等技术领域,均有着不错的发挥。
如今,在华为受美方制裁面临断芯危机,中国芯片产业亟待发展之时,上海微电子被推到了十分重要的位置上。不过,实现高端光刻机的研制并不容易,甚至要难于原子弹的制造。就算是ASML也要融合全球供应链厂商,其将近90%的零部件,都由供应商提供。
因此,上海微电子的发展需要我国半导体及相关厂商的共同努力才能够实现,仅靠自己去突破海外光刻机垄断,无疑是天方夜谭。而且,我国在芯片相关技术、材料等方面也有着缺失,短板较多,并不是一朝一夕便能够改变,需要一种厂商的共同发力。
如今,我国已经制定了2025年芯片自给率达到70%的目标,并通过免税、将集成电路列入一级学科等手段,推动这一目标的实现。而包括上海微电子之内的中国相关厂商,都将受益,实现更进一步的突破。期待我国芯片行业的未来发展。
包含在C05D 1/00至C05D 9/00一个以上的大组中的混合肥
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