C25电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕
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C25D覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸(印刷电路的金属沉积法制造入H05K 3/18);工件的电解法接合;所用的装置(阳极或阴极保护入 C23F13/00;单晶生长入C30B)〔2,6〕
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C25D1/00电铸〔2〕
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C25D11/00表面反应,即形成转化层的电解覆层〔2〕
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C25D13/00电泳镀覆(C25D 15/00优先;电泳镀覆用的组合物入C09D 5/44)〔2〕
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C25D15/00含嵌入材料,例如颗粒、须、丝之覆层的电解或电泳生产〔2〕
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C25D17/00电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件〔2〕
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C25D19/00电解镀覆的成套设备〔2〕
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C25D2/00工件的电解法接合〔6〕
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C25D21/00电解镀覆用电解槽的维护或操作方法〔2〕
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C25D3/00电镀;其所用的镀液〔2〕
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C25D5/00以工艺方法为特征的电镀;工件的预处理或后处理〔2〕
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C25D7/00以施镀制品为特征的电镀〔2〕
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C25D9/00非金属电镀层(C25D 11/00、C25D 15/00优先;电泳覆层入C25D 13/00)〔2〕
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